—GERAL—

O Ultima IV representa o que há de mais avançado em difratometria de raios x, multipropósito. Este equipamento incorpora a tecnologia CBO (Cross Beam Optics), patenteada pela Rigaku, com geometrias permanentemente montadas e alinhadas, através das quais o usuário pode trabalhar com feixe focado (Bragg-Bretano Optics) ou com feixe paralelo (Parallel Beam Optics), realizando inúmeras medições, de forma rápida.

Com este difratômetro multipropósito, o desempenho é medido não somente pela rapidez com que se faz um experimento, mas também por quão rápido você pode trocar diferentes tipos de experimentos. Experimentos individuais são otimizados com acessórios como o sistema detector de alta velocidade D/TEX Ultra, mas a velocidade entre os experimentos é radicalmente melhorada com a combinação do alinhamento automático e do CBO.

O Ultima IV é o único sistema de DRX no mercado que incorpora o alinhamento totalmente automático. Quando acoplado com o CBO e o braço in-plane, a capacidade do alinhamento automático faz do Ultima IV o mais flexível sistema disponível para aplicações diversas.

A tecnologia CBO elimina o tempo gasto trocando as geometrias e permite que diariamente os usuários executem experimentos, sem a necessidade de reconfigurar o sistema, além de reduzir o desgaste e os possíveis danos do sistema óptico associados com os processos de trocas recorrentes. O CBO e o alinhamento automático se combinam para maximizar a funcionalidade da micro-difratometria, da difração de filmes finos, do espalhamento de baixo ângulo e do espalhamento in-plane.
 


 
—CARACTERÍSTICAS—
 
. Alinhamento completamente automático por computador.
. Braço opcional para difração in-plane.
. Geometria Brag-Bretano e paralela sem reconfiguração.
. Capacidade para SAXS.
. Detector de alta velocidade, sensível a posição, D/TEX Ultra (opcional)
 

—ESPECIFICAÇÕES—

Gerador de Raios X
. Potência Máxima de saída: 3kW
. Voltagem do Tubo: 20-60kV
. Corrente do Tubo: 2-6-mA
. Alvo Cu (outros: opcional)

Goniômetro
. Modo varredura: θs/θd em dupla ou θs, θd independente
. Raio: 285mm
. Alcance de medida 2θ: -3 a 162°
. Tamanho mínimo do passo: 0,0001°

Ótica
. Fenda de divergância variável fixa ou automática
. Fenda de espalhamento: variável fixa ou automática
. Fenda de recebimento: variável fixa ou automática
. Alinhamento ótico: alinhamento automático da altura do tubo, goniômetro , ótica e detetor
. Monocromador: de dupla posição do feixe difratado para Cu. (outros: opcional)

Detector
. Contador de cintilação (outros: opcional)

Dimensões (mm)
. 1600 (alt) x 1100 (larg) X 800 (prof) 

Altura da amostra
. 1050
 

—ACESSORIOS—

Acessório avançado para filmes finos
Acessório multipropósito para o alinhamento perfeito de amostras de filmes finos. O alinhamento automático proporciona o fácil posicionamento das amostras, para a refletividade de raios X, a difração in plane e análises de orientação. Utiliza o design Rx/Ry para opções de varredura dos mais flexíveis espaços recíprocos.

Acessório de alta temperatura Reator X para gases reativos 
Dispositivo automático de temperatura variável, para medições in situ de difração e Raios X de materiais, à temperaturas baixas e altas (-180°C a 350°C). O dispositivo pode operar em ar, gás, vácuo ou sob condições de resfriamento, com nitrogênio líquido.

A amostra é aquecida por irradiação, para reduzir a variação do gradiente térmico que nela acontece. A translação automática Z do dispositivo, assegura o posicionamento da amostra, mesmo na presença da expansão térmica da mesma.  

Acessório de baixa e média temperaturaDispositivo automático de temperatura variável, para medições in situ de difração e Raios X de materiais, à temperaturas baixas e altas (-180°C a 350°C). O dispositivo pode operar em ar, gás, vácuo ou sob condições de resfriamento, com nitrogênio líquido.
A amostra é aquecida por irradiação, para reduzir a variação do gradiente térmico que nela acontece. A translação automática Z do dispositivo, assegura o posicionamento da amostra, mesmo na presença da expansão térmica da mesma.

Acessório de alta temperatura HT 1500
Dispositivo automático de temperatura variável, para medições in situ, por difração de Raios X de materiais, em ambientes com altas temperaturas (+ de 1500°C). O dispositivo pode operar em ar, gás, vácuo ou sob gás inerte, como hélio e nitrogênio.
A amostra é aquecida por irradiação, para reduzir a variação de gradiente térmico que nela acontece. A translação automática Z do dispositivo assegura o posicionamento da amostra, mesmo na presença da expansão térmica da mesma.
 

—APLICAÇÕES—

. Análise de produtos químicos de vidro, tintas e corante vermelhão em artes e ofícios.
. Análise de filmes finos.
. Análise de Bentonita
. Junções moleculares de Co / isolante / Co impresso em contato
. Detecção de baixo nível de impurezas polimórficas em fármacos
. Medição rápida e não destrutiva de impurezas polimórficas em comprimidos
. Análise de difração de raios X de ângulo rasante de filmes finos
. Difração de raios X de incidência rasante de um filme de óxido de molibdênio
. Difração de raios X de incidência rasante (GIXRD) e refletividade de raios x de um material de Ni-Mn-Ga
. Medidas de alta intensidade e alta resolução de amostra bem pulverizada

As aplicações de difração em pó incluem:

. Estresse de alta resolução e medidas de textura
. Figuras de pólo sobre uma amostra de aço
. Análise in-situ

As capacidades não ambientais incluem:

. Estudos de alta temperatura in-situ de um material de coeficiente de expansão térmica negativa, ZrW2O8
. Análise de fase de difração de raios x in-situ, de baterias de íon de lítio
. Mensuração de traços de componentes amorfos, em matéria prima de drogas
. Varredura in-plane sobre demanda, para análise de filmes finos

Aplicações de filmes finos incluem:

. Distribuição de tamanho de nanopartículas de Cu, em filme de poliamida
. Distribuição de tamanho de partícula de Pd sobre sílica
. Percentual de cristalinidade de um aerogel de CuO
. Refinamento de Reitveld a partir de um pedaço de rocha
. Refinamento de Reitveld para amostra de cimento
. Refinamento de Reitveld de pó de corrosão de sulfeto
. Refinamento de Reitveld de solo urbano
. Refinamento de Reitveld da rede de fluoreto de tântalo dopado (EuLaF3)
. Distribuição de tamanho de nanopartículas de CdSe
. Medidas de espalhamento de raios X de baixo ângulo (SAXS), de nanomateriais

As aplicações de SAXS incluem:

. Análises de espalhamento de raios X de baixo ângulo, de nanopartículas de Pt, com base de carbono
. Espalhamento de raios X de baixo ângulo, de nanomateriais
. Mapeamento de pequena área, de uma fratura em um material TiN
. Mudanças estruturais de uma liga de Whistler, devido ao tratamento térmico
. Estudando matrizes moleculares em um cristal líquido
. A composição da casca de ovo
. Os efeitos da temperatura e da atmosfera, na agregação de nanopartículas de Pt
 

Rigaku
Desde a sua criação, a Rigaku está à frente da tecnologia ligada à instrumentação analítica e industrial. Contando com as maiores inovações nesta área, a Rigaku é líder mundial em difração e espectrometria, cristalografia de raios X para proteína e pequenas moléculas, metrologia de semicondutores, automação, criogênicos e raios X ópticos, espectroscopia Raman, entre outros.